Choose your country / language

Enhanced Sputtering - การทำสปัตเตอริ่งแบบประสิทธิภาพสูง

การทำสปัตเตอริ่งแบบประสิทธิภาพสูงจะใช้การคายประจุอาร์คแรงดันไฟฟ้าต่ำที่บริเวณตรงกลางของห้องสุญญากาศ เพื่อสร้างพลาสม่าที่มีความเข้มข้นสูงกว่ากระบวนการสปัตเตอริ่งทั่วไปหลายเท่า ดังนั้น จึงสามารถทำการไอออไนเซชั่นอนุภาคในสถานะก๊าซได้สูงกว่า

  1. ตัวกำเนิดลำอิเล็กตรอน
  2. อาร์กอน
  3. ก๊าซที่ไวต่อปฏิกิริยา
  4. ตัวสร้างการระเหยแบบพลานาร์แมกนีตรอน (สารเคลือบ)
  5. ชิ้นงาน/เครื่องมือ
  6. การคายประจุอาร์คแรงดันไฟฟ้าต่ำ
  7. แอโนดเสริม
  8. ปั๊มสุญญากาศ

ข้อเสนอแนะหรือคำถาม? ติดต่อกับพวกเรา!

keyboard_arrow_up