การทำสปัตเตอริ่งแบบประสิทธิภาพสูงจะใช้การคายประจุอาร์คแรงดันไฟฟ้าต่ำที่บริเวณตรงกลางของห้องสุญญากาศ เพื่อสร้างพลาสม่าที่มีความเข้มข้นสูงกว่ากระบวนการสปัตเตอริ่งทั่วไปหลายเท่า ดังนั้น จึงสามารถทำการไอออไนเซชั่นอนุภาคในสถานะก๊าซได้สูงกว่า
Choose your country / language
Global
Americas
-
Argentina
-
Brazil
-
Canada
-
Mexico
-
USA
Europe
-
Austria
-
Belgium
-
Czech Republic
-
Finland
-
France
-
Germany
-
Hungary
-
Italy
-
Luxembourg
-
Netherlands
-
Poland
-
Portugal
-
Romania
-
Slovakia
-
Turkey
-
United Kingdom
Asia
-
China
-
India
-
Indonesia
-
Japan
-
Korea
-
Malaysia
-
Philippines
-
Singapore
-
Vietnam
Enhanced Sputtering - การทำสปัตเตอริ่งแบบประสิทธิภาพสูง
ปรับคุณภาพของชั้นให้เหมาะสมเนื่องจากระดับไอออนไนซ์ที่สูงขึ้น
- ตัวกำเนิดลำอิเล็กตรอน
- อาร์กอน
- ก๊าซที่ไวต่อปฏิกิริยา
- ตัวสร้างการระเหยแบบพลานาร์แมกนีตรอน (สารเคลือบ)
- ชิ้นงาน/เครื่องมือ
- การคายประจุอาร์คแรงดันไฟฟ้าต่ำ
- แอโนดเสริม
- ปั๊มสุญญากาศ
© Copyright 2024 OC Oerlikon Management AG
กลับไปที่ด้านบน keyboard_arrow_up