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Sputtering incrementado

O princípio que rege a pulverização catódica incrementada é similar ao do processo de pulverização catódica. Uma descarga por arco de baixa tensão no centro da câmara aumenta a intensidade do plasma em várias vezes, produzindo assim um grau muito maior de ionização.

  1. Fonte do feixe eletrônico
  2. Argônio
  3. Gás reativo
  4. Fonte de evaporação por magnétron planar (material de revestimento)
  5. Componentes/Ferramentas
  6. Descarga por arco de baixa tensão
  7. Ânodo auxiliar
  8. Bomba de vácuo

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