Zlepšené naprašovanie využíva nízkonapäťový oblúkový výboj v centre komory, aby bola vytvorená plazmová intenzita niekoľkokrát väčšia ako základný naprašovací postup a tak bol produkovaný omnoho vyšší stupeň ionizácie častíc v plynnej fáze.
Choose your country / language
Global
Americas
-
Argentina
-
Brazil
-
Canada
-
Mexico
-
USA
Europe
-
Austria
-
Belgium
-
Czech Republic
-
Finland
-
France
-
Germany
-
Hungary
-
Italy
-
Luxembourg
-
Netherlands
-
Poland
-
Portugal
-
Romania
-
Slovakia
-
Turkey
-
United Kingdom
Asia
-
China
-
India
-
Indonesia
-
Japan
-
Korea
-
Malaysia
-
Philippines
-
Singapore
-
Vietnam
Vylepšené rozprašovanie
Zlepšená kvalita povlaku vďaka vyššiemu stupňu ionizácie
- Zdroj elektrónového lúča
- Argón
- Reaktívny plyn
- Zdroj planárneho magnetrónového odparovania (povlakovací materiál)
- Komponenty/Nástroje
- Nízkonapäťový oblúkový výboj
- Pomocná anóda
- Vákuová pumpa
© Copyright 2025 OC Oerlikon Management AG
Späť na začiatok keyboard_arrow_up