Vylepšené rozprašovanie

Zlepšené naprašovanie využíva nízkonapäťový oblúkový výboj v centre komory, aby bola vytvorená plazmová intenzita niekoľkokrát väčšia ako základný naprašovací postup a tak bol produkovaný omnoho vyšší stupeň ionizácie častíc v plynnej fáze.