\uf1ad

Wzmocnione napylanie (enhanced sputtering)

Wzmocnione napylanie (enhanced sputtering)

Wzmocnione napylanie wykorzystuje niskonapięciowe wyładowanie łukowe w centrum komory w celu wytworzenia plazmy o intensywności kilkukrotnie większej niż w podstawowym procesie napylania, a tym samym do wytworzenia znacznie wyższego stopnia jonizacji cząstek w fazie gazowej.

  1. 1. Źródło wiązki elektronowej
  2. 2. Argon
  3. 3. Gaz reagujący
  4. 4. Magnetronowe źródło materiału powłoki
  5. 5. Komponenty/Narzędzia
  6. 6. Niskonapięciowe wyładowanie łukowe
  7. 7. Anoda pomocnicza
  8. 8. Pompa próżniowa
Kontakt