Choose your country / language

Wzmocnione napylanie (enhanced sputtering)

Wzmocnione napylanie wykorzystuje niskonapięciowe wyładowanie łukowe w centrum komory w celu wytworzenia plazmy o intensywności kilkukrotnie większej niż w podstawowym procesie napylania, a tym samym do wytworzenia znacznie wyższego stopnia jonizacji cząstek w fazie gazowej.

  1. Źródło wiązki elektronowej
  2. Argon
  3. Gaz reagujący
  4. Magnetronowe źródło materiału powłoki
  5. Komponenty/Narzędzia
  6. Niskonapięciowe wyładowanie łukowe
  7. Anoda pomocnicza
  8. Pompa próżniowa

Opinie lub pytania? Skontaktuj się z nami!

keyboard_arrow_up