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Pulvérisation avancée

Pulvérisation avancée

Le principe de pulvérisation avancée utilise une décharge d'arc à basse tension placé au centre de l'enceinte pour générer une augmentation de la densité du plasma beaucoup plus importante que dans une procédure de pulvérisation classique, et produire ainsi un degré d'ionisation beaucoup plus élevé en phase gazeuse.

  1. 1. Source à faisceau d'électrons
  2. 2. Argon
  3. 3. Gaz réactif
  4. 4. Source d'évaporation à magnétron planaire (matériau à déposer)
  5. 5. Composants / outils
  6. 6. Décharge d'arc à basse tension
  7. 7. Anode auxiliaire
  8. 8. Pompe à vide
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