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Sputtering mejorado

La pulverización por bombardeo iónico mejorada emplea una descarga de arco de baja tensión en el centro de la cámara para crear una intensidad de plasma varias veces superior al procedimiento de pulverización por bombardeo iónico básico, y con ello producir un grado muy superior de ionización de partículas de la fase gaseosa.

  1. Fuente de haz de electrones
  2. Argón
  3. Gas reactivo
  4. Fuente de evaporación de magnetrón planar (material de recubrimiento)
  5. Componentes/herramientas
  6. Descarga de arco de baja tensión
  7. Ánodo auxiliar
  8. Bomba de vacío
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