We wszystkich procesach PVD, części do powlekania w komorze próżniowej najpierw są grzane, a następnie wytrawiane jonowo poprzez bombardowanie jonami argonu, w celu wytworzenia czystej metalicznej powierzchni, wolnej od wszelkiego zanieczyszczenia pierwiastkami – jest to podstawowy warunek optymalnej adhezji powłoki.
Następnie do źródła zawierającego materiał powłoki podawane jest wysokie ujemne napięcie. Powstałe elektryczne wyładowanie gazowe powoduje tworzenie się dodatnich jonów argonu, przyspieszanych w kierunku materiału powłokowego, rozpylając go jednocześnie. Odparowany, rozpylony metal w fazie gazowej osadzany jest wraz z gazem zawierającym niemetaliczny składnik twardej powłoki.
Końcowym wynikiem jest krystalizacja cienkiej, kompaktowej powłoki o pożądanej strukturze i składzie.
