Wybierz kraj/język
Global
Americas
-
Argentina
-
Brazil
-
Canada
-
Mexico
-
USA
Europe
-
Austria
-
Belgium
-
Czech Republic
-
Finland
-
France
-
Germany
-
Hungary
-
Italy
-
Luxembourg
-
Netherlands
-
Poland
-
Portugal
-
Romania
-
Slovakia
-
Turkey
-
United Kingdom
Asia
-
China
-
India
-
Indonesia
-
Japan
-
Korea
-
Malaysia
-
Philippines
-
Singapore
-
Vietnam
S3p –Scalable pulsed power plasma
Gładka rewolucja - Podążaj za przepływem inteligencji
Oerlikon Balzers - S3p
S3p łączy zalety metody odparowania łukowego i sputteringu:
- Wysoka jonizacja w procesie, bez nieporządanych kropel
- Gładka powierzchnia powłoki
- Bardzo wysoka gęstość i twardość powłoki
- Doskonała adhezja
Unikalne okno procesowe i osobna skalowalność
- czasu trwania impulsu
- kształtu impulsu
- gęstości prądu
otwierają dostęp do nieosiągalnych dotychczas opcji designu powlekania. Zindywidualizowane powłoki doskonale wypełniające wymagania danego zastosowania stają się teraz rzeczywistością z S3p.
Parowanie łukowe (Arc evaporation)
W metodzie parowania łukowego niewielki ładunek elektryczny o dużym natężeniu wędruje po powierzchni źródła. Materiał się natychmiast topi i następuje kondensacja oparów metalicznych na detalu. Ze względu na wybuchowy charakter procesu, tworzą się krople płynnego metalu, które mogą powodować chropowatość powierzchni powłoki. Można wprowadzić reaktywny gaz, który utworzy związki chemiczne.
Charakterystyka procesu:
- Wysoki stopień jonizacji
Właściwości powłoki:
- Wysoka gęstość, wysoka twardość
- Doskonałe przywieranie
- Mniejsza gładkość, krople
Napylanie (Sputtering)
Napylanie to proces, w którym atomy są wybijane z litego materiału źródła wskutek bombardowania go cząsteczkami energetycznymi. W tej cienkowarstwowej powłoce osiąga się to poprzez przyspieszenie jonów argonu w kierunku źródła, z którego wybijają atomy metali, które następnie osadzane są na powierzchni detalu. Związki takie jak azotki metali formują się poprzez wprowadzanie gazu do komory próżniowej.
Charakterystyka procesu:
- Niski stopień jonizacji
Właściwości powłoki:
- niska gęstość, niska twardość
- średnia adhezyjność
- gładka powierzchnia
Powłoki, które tworzą historię
Technologiczny kamień milowy: BALIQ™ - nowa generacja powłok Oerlikon Balzers. Oparta na naszej technologii S3p (Scalable Pulsed Power Plasma), inteligentnie łączy zalety metody odparowania łukowego i sputteringu.
Efektem jest BALIQTM, nowa rodzina przeciwzużyciowych powłok o rewolucyjnych właściwościach i unikalnym spektrum zastosowań. Użytkownicy korzystają z nowych możliwości wykraczających poza wszystko, co poznali dotychczas – powłok dokładnie dopasowanych do potrzeb.
Cechy
-
Precyzja
Precyzja
Wysoka precyzja w grubości powłoki zapewnia wysoką precyzję krawędzi tnących. Doskonałe wyniki widoczne są szczególnie w zastosowaniu na narzędziach o ultraniskich średnicach.
-
Skalowanie
Skalowanie
Precyzyjne, niezależne skalowanie czasu i kształtu impulsu oraz unikalne skalowanie mocy w ramach S3p umożliwia tworzenie zindywidualizowanych powłok. Ograniczenia konwencjonalnych HiPIMS pokonuje się w ramach unikalnego okna procesowego, znacznie wyższych parametrów osadzania oraz lepszej stabilności procesu.
-
Gładkość
Gładkość
Rewolucyjnie gładka powierzchnia i niski procent uszkodzeń powłok na bazie S3p umożliwiają płynne odprowadzanie wiórów. Nie jest konieczna mechaniczna obróbka dodatkowa. Adhezja materiału obrabianego można wyeliminować nawet w przypadku materiałów trudnych do obróbki, z tendencją do narastania na krawędzi.
-
Design powłoki
Design powłoki
Technologia S3p pozwala na zastosowanie dużej różnorodności materiałów powłoki. Pozwala to na liczne zastosowania specyficznych rozwiązań powłokowych.
-
Adhezja
Adhezja
Powłoki na bazie S3p wyróżniają się doskonałym połączeniem powłoki z podłożem. Wysoka adhezja - przynajmniej równa tej uzyskiwanej w metodzie parowania łukowego - gwarantuje długą, odtwarzalną trwałość narzędzia.
-
Twardość
Twardość
Powłoki uzyskiwane w metodzie łukowej oraz S3p mają wysoką twardość, co przekłada się na wysoką odporność na ścieranie.
-
Gęstość
Gęstość
Gęstość powłok opartych na S3p jest zbliżona do gęstości objętościowej. Powłoki nanoszone sputteringowo wykazują bardziej otwartą strukturę kolumnową, której słabą cechą jest niższa twardość, niższa odporność na rozprzestrzenianie się pęknięć i dyfuzję.
© Copyright 2025 OC Oerlikon Management AG
Powrót do menu keyboard_arrow_up