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스퍼터링

모든 PVD 공정에서는 코팅이 적용될 진공 챔버의 부품이 먼저 가열된 다음, 아르곤 이온과의 충돌로 인해 이온이 에칭되어 순수하고 깨끗하며 원자 오염이 전혀 없는 금속 표면이 만들어집니다. 이는 최적의 코팅 밀착력을 얻기 위한 필수 조건입니다. 

그런 다음 코팅 재료가 포함된 스퍼터링 소스에 높은 네거티브 전압이 적용됩니다. 그 결과, 전기 가스가 방전되어 아르곤 양이온이 형성되며 빠른 속도로 코팅 재료를 원자화합니다. 가스 단계에서 증발, 원자화된 금속은 하드 코팅의 비금속 성분을 포함하는 가스와 반응합니다.

최종적으로 원하는 구조와 구성을 갖는 얇고 컴팩트한 코팅이 증착됩니다.

  1. 아르곤
  2. 활성 가스
  3. 평면 마그네트론 증발원(코팅 재료)
  4. 부품/공구
  5. 진공 펌프

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