El DOMINO micra cumple con los requisitos de casi todos los desafíos en una plataforma. Permite una amplia variedad de tecnologías según los requisitos del cliente y es una plataforma perfecta, especialmente como sistema HiPIMS.
- Tecnología APA Arc, pulverización HiPIMS o hybrid
- Sputtering HiPIMS con 4 magnetrones y BIAS pulsado bipolar sincronizado
- Combinación también con PACVD y proceso de nitruración
- Adaptación de varias tecnologías según los requisitos del cliente
| Propiedades | DOMINO micra |
|---|---|
| Equipment type | compact (1 chamber door) |
| Volumen útil de recubrimiento | Ø 450 mm x 500 mm |
| Módulos de recubrimiento disponibles | Arco, Pulverización, HiPIMS, Hybrid, Nitruración |
| Evaporadores de arco APA | 3 a 12 |
| Fuentes de pulverización del magnetrón | 1 a 4 |
| Available power supplies | DC, DC pulse, middle frequency (MF), HiPIMS, (RF upon request) |
| Available BIAS | Bipolar pulse, middle frequency |
| Limpieza de plasma | Todos los sistemas equipados con el proceso de grabado por energía AEGD patentado |
| Tabla de substrato estándar (otras por solicitud) |
6 ejes |