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METAPLAS.DOMINO micra

El METAPLAS.DOMINO micra cumple con los requisitos de casi todos los desafíos en una plataforma. Permite una amplia variedad de tecnologías según los requisitos del cliente y es una plataforma perfecta, especialmente como sistema HiPIMS.

  • Tecnología APA Arc, pulverización HiPIMS o HI3
  • Sputtering HiPIMS con 4 magnetrones y BIAS pulsado bipolar sincronizado
  • Combinación también con PACVD y proceso de nitruración
  • Adaptación de varias tecnologías según los requisitos del cliente
Propiedades METAPLAS.DOMINO micra
Volumen útil de recubrimiento Ø 450 mm x 500 mm
Módulos de recubrimiento disponibles Arco, Pulverización, HiPIMS, HI3, Nitruración
Evaporadores de arco APA 3 a 12
Fuentes de pulverización del magnetrón 1 a 4
Available power supplies DC, DC pulse, middle frequency (MF), HiPIMS, (RF upon request)
Available BIAS Bipolar pulse, middle frequency
Limpieza de plasma Todos los sistemas equipados con el proceso de grabado por energía AEGD patentado
Tabla de substrato estándar
(otras por solicitud)
6 ejes

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