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METAPLAS.DOMINO micra Une solution compacte et polyvalente pour une solution PVD personnalisée

METAPLAS.DOMINO micra

Le METAPLAS.DOMINO micra répond aux exigences de presque tous les défis sur une seule plateforme. Elle permet une grande variété de technologies en fonction des besoins du client et constitue une plateforme parfaite, en particulier en tant que système HiPIMS.

  • Arc APA, pulvérisation HiPIMS ou technologie HI3
  • Pulvérisation HiPIMS avec 4 magnétrons et BIAS pulsé bipolaire synchronisé
  • Combinaison également avec PACVD et processus de nitruration
  • Adaptation de diverses technologies en fonction des besoins du client
Properties METAPLAS.DOMINO micra
Usable coating volume Ø 450 mm x 500 mm
Available coating modules Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding
APA arc evaporators 3 to 12
Magnetron sputter sources 1 to 4
Available power supplies DC, DC pulse, middle frequency (MF), HiPIMS, (RF upon request)
Available BIAS Bipolar pulse, middle frequency
Plasma cleaning All systems equipped with patented power etching process AEGD
Standard substrate table
(others upon request)
6 shafts

© Copyright 2024 OC Oerlikon Management AG

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