TEl equipo DOMINO micra cumple las necesidades de casi todos los retos un una única plataforma.
Permite utilizar una gran variedad de tecnologías dependiendo de las necesidades del cliente y es una plataforma perfecta, especialmente como sistema HiPIMS.
- APA Arc, HiPIMS sputtering o tecnología hybrid
- HiPIMS sputtering con 4 magnetrones y BIAS bipolar pulsado sincronizado
- Combinación posible con proceso de nitruración PACVD
- Reequipamiento con varias tecnologías según las necesidades del cliente
| Propiedades | DOMINO micra |
|---|---|
| Equipment type | compact (1 chamber door) |
| Volumen útil de recubrimiento | Ø 450 mm x 500 mm |
| Módulos de recubrimiento disponibles | Arco, Pulverización, HiPIMS, Hybrid, Nitruración |
| Evaporadores de arco APA | 3 a 12 |
| Fuentes de pulverización del magnetrón | 1 a 4 |
| Fuentes de alimentación disponibles | DC, DC pulse, middle frequency (MF), HiPIMS, (RF upon request) |
| BIAS disponible | Bipolar pulse, middle frequency |
| Limpieza de plasma | Todos los sistemas equipados con el proceso de grabado por energía AEGD patentado |
| Tabla de substrato estándar (otras por solicitud) |
6 ejes |