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METAPLAS.DOMINO micra Uma solução compacta e versátil para uma solução PVD customizada

METAPLAS.DOMINO micra

O METAPLAS.DOMINO micra atende aos requisitos de quase todos os desafios em uma plataforma. Isso permite uma ampla variedade de tecnologia de acordo com os requisitos e é uma plataforma perfeita, especialmente como um sistema HiPIMS.

  • APA Arc, HiPIMS sputtering ou tecnologia HI3
  • HiPIMS com 4 magnetrons e BIAS sincronizado, bipolar pulsado
  • Combinação também com PACVD e processo de nitretação
  • Retrofitting de várias tecnologias, dependendo das exigências do cliente
Propriedades METAPLAS.DOMINO micra
Volume de revestimento útil Ø 450 mm x 500 mm
Módulos de revestimento disponíveis Arco, sublimação catódica, HiPIMS, HI3, Nitretação
Evaporadores por arco APA 3 a 12
Fontes de sublimação catódica magnetrônica 1 a 4
Fontes de alimentação disponíveis DC, DC pulso, frequência média (MF), HiPIMS, (RF a pedido)
BIAS disponível Pulso bipolar, frequência média
Limpeza com plasma Todos os sistemas equipados com o processo patenteado de gravação AEGD
Tabela de substrato padrão
(outros, a pedido)		 6 eixos
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