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METAPLAS.DOMINO micra Eine kompakte und vielseitige Lösung für eine kundenspezifische PVD-Lösung

METAPLAS.DOMINO micra

Die METAPLAS.DOMINO micra erfüllt die Anforderungen an fast alle Herausforderungen auf einer Plattform.
Sie erlaubt eine Ausrüstung mit verschiedensten Technologien nach Kundenanforderungen und bietet speziell als HiPIMS-Anlage eine perfekte Basis.

  • APA Arc, HiPIMS-Sputtern oder HI3-Technologie
  • HiPIMS-Sputtern mit 4 Magnetrons und synchronisierter, bipolar gepulster BIAS
  • Kombination auch mit PACVD und Nitrierprozess
  • Nachrüstung unterschiedlichster Technologien je nach Kundenanforderungen
Eigenschaften METAPLAS.DOMINO micra
Verwendbares Beschichtungsvolumen Ø 450 mm x 500 mm
Erhältliche Beschichtungsmodule Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding
ARC-Verdampfer 3 bis 12
Magnetron-Sputterquellen 1 bis 4
Verfügbare Leistungsversorgungen DC, DC Puls, Mittelfrequenz (MF), HiPIMS, (HF auf Anfrage)
Verfügbare BIAS bipolar gepulst, Mittelfrequenz
Plasma-Ätzen Alle Anlagen sind mit dem patentierten, leistungsstarken Ätzprozess AEGD ausgestattet
Standard Substrattisch
(weitere auf Anfrage)
6 Spindeln
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