BALORA® HALONA는 고난도 플라즈마 에칭 공정용으로 설계된 PVD코팅으로 탁월한 화학적 안정성과 내마모성을 제공하여 현재와 미래 반도체 공정의 요구 사항들을 충족시킵니다.
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BALORA HALONA 탁월한 내식성으로 반도체 공정에서 장기간 안정적 성능을 제공
- 불소 플라즈마 화학 반응에 거의 반응하지 않도록 설계
- 평면 및 복잡한 형상의 챔버 부품 모두에서 10nm 이하 에칭 공정에 이상적
- 파티클 발생 최소화, 부품 수명 연장, 높은 수율 확보 및 총 소유 비용(CoO) 절감 효과 제공
- 100% 고밀도 코팅
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