针对含氟等离子体化学环境的高度惰性设计,与含氟等离子体几乎不发生化学反应 适用于10 nm以下先进刻蚀工艺,兼容平面及复杂结构腔体部件 低颗粒生成,有助于延长部件使用寿命、提升良率并降低综合拥有成本(CoO) 涂层致密度达100%,有效提升屏障性能