BALORA® HALONA è un rivestimento PVD progettato per il processo di plasma etching ad alta intensità. Offre un'eccellente resistenza chimica e all'abrasione, per soddisfare le esigenze attuali e future dei semiconduttori.
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BALORA HALONA Protezione ottimale dalla corrosione, per garantire prestazioni a lunga durata dei semiconduttori
- Progettato per essere praticamente inerte alle sostanze chimiche fluorurate utilizzate nei processi al plasma
- Ideale per processi di etching inferiori a 10 nm, depositabile su componenti di camere planari e di geometria complessa
- Garantisce una bassa generazione di particelle, una maggiore durata dei componenti, una resa di produzione elevata e un abbattimento dei costi complessivi
- Rivestimento denso al 100%
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