METAPLAS.DOMINO micra可以在一个平台上满足几乎所有挑战的要求。它允许根据客户需求使用多种技术，是一个趋近于完美的平台，特别是HIPIMS系统。
- APA Arc, HiPIMS 溅射或HI3技术
- 配备有 4 个磁控阴极和同步双极脉冲 BIAS 的 HiPIMS 溅射
- 还可与 PACVD 和氮化工艺相结合
- 根据客户要求改装配备各种技术模块
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METAPLAS.DOMINO micra 用于定制 化PVD 的紧凑型多功能解决方案
| 属性 | METAPLAS.DOMINO micra |
|---|---|
| 可用涂层容量 | Ø 450 mm x 500 mm |
| 可用涂层模块 | Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding |
| APA 电弧蒸发器 | 3 - 12 |
| 磁控溅射源 | 1 - 4 |
| 可用电源 | DC, DC pulse, middle frequency (MF), HiPIMS, (RF upon request) |
| 可设置偏压 | Bipolar pulse, middle frequency |
| 等离子清洁 | All systems equipped with patented power etching process AEGD |
| 标准工作台(其他可根据需求) | 6 轴 |
