DOMINO micra可以在一个平台上满足几乎所有挑战的要求。它允许根据客户需求使用多种技术,是一个趋近于完美的平台,特别是HIPIMS系统。
- APA Arc, HiPIMS 溅射或HI3技术
- 配备有 4 个磁控阴极和同步双极脉冲 BIAS 的 HiPIMS 溅射
- 还可与 PACVD 和氮化工艺相结合
- 根据客户要求改装配备各种技术模块
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            DOMINO micra可以在一个平台上满足几乎所有挑战的要求。它允许根据客户需求使用多种技术,是一个趋近于完美的平台,特别是HIPIMS系统。
| 属性 | DOMINO micra | 
|---|---|
| 可用涂层容量 | Ø 450 mm x 500 mm | 
| 可用涂层模块 | Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding | 
| APA 电弧蒸发器 | 3 - 12 | 
| 磁控溅射源 | 1 - 4 | 
| 可用电源 | DC, DC pulse, middle frequency (MF), HiPIMS, (RF upon request) | 
| 可设置偏压 | Bipolar pulse, middle frequency | 
| 等离子清洁 | All systems equipped with patented power etching process AEGD | 
| 标准工作台(其他可根据需求) | 6 轴 | 
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