Le DOMINO micra répond aux exigences de presque tous les défis sur une seule plateforme. Elle permet une grande variété de technologies en fonction des besoins du client et constitue une plateforme parfaite, en particulier en tant que système HiPIMS.
- Arc APA, pulvérisation HiPIMS ou technologie hybrid
- Pulvérisation HiPIMS avec 4 magnétrons et BIAS pulsé bipolaire synchronisé
- Combinaison également avec PACVD et processus de nitruration
- Adaptation de diverses technologies en fonction des besoins du client
| Properties | DOMINO micra |
|---|---|
| Equipment type | compact (1 chamber door) |
| Usable coating volume | Ø 450 mm x 500 mm |
| Available coating modules | Arc, Sputter, HiPIMS, Hybrid, Nitriding |
| APA arc evaporators | 3 to 12 |
| Magnetron sputter sources | 1 to 4 |
| Available power supplies | DC, DC pulse, middle frequency (MF), HiPIMS, (RF upon request) |
| Available BIAS | Bipolar pulse, middle frequency |
| Plasma cleaning | All systems equipped with patented power etching process AEGD |
| Standard substrate table (others upon request) |
6 shafts |