METAPLAS.DOMINOUne seule plateforme technologique – de multiples possibilités
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Adaptation de plusieurs modules aux besoins individuels et création d'une grande unité – c'est la base de METAPLAS.DOMINO. Cet équipement couches minces de pointe a été développé à partir des connaissances acquises depuis près de 30 ans et de notre expérience dans l’industrie de fabrication d’outils.
Pour Oerlikon Balzers, cela implique de proposer des solutions de systèmes efficaces, voire même de créer des tendances dans le domaine du traitement de surface. Le concept modulaire et flexible de l'équipement couches minces permet d'autres développements et mises à niveau.
- Haute fiabilité du procédé
- Rapidité des temps de cycles
- Faibles coûts par pièce
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Avantages
Avantages
- Flexibilité, diverses options de développement modulaire
- Des revêtements personnalisés
- Maintenance et besoin en pièces de rechange réduits au minimum
- Un service après-vente efficace
HI3 – High Ionization Triple
Technologie hybride (Arc + HiPIMS) combinée au process de décapage plasma AEGD :
- La force combinée de 3 process en un seul système PVD
- Excellente adhérence, vitesse de dépôt élevée, revêtements lisses, production économique
- Grâce à l'approche innovante de cette nouvelle génération de revêtements PVD aux applications variées
- La technologie HI3 permet de réaliser une multitude d'architectures de couches
- La technologie HI3 permet d'adapter les revêtements en fonction d'une large gamme de matériaux, du micro-alliage, du dopage, de la conception de l'architecture des couches... combinée avec une production économique !
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Spécifications
Équipement avec chambre intégrée
Un équipement compact dans différentes dimensions pour tous les besoins de la production.
Propriétés METAPLAS.DOMINO picaMETAPLAS.DOMINO micraMETAPLAS.DOMINO kilaVolume de dépôt utilisable Ø 330 mm x 300 mmØ 450 mm x 500 mmØ 620 mm x 700 mmModules de dépôt disponibles Arc, pulvérisation, HiPIMS, HI3, nitruration, DLC, ta-CÉvaporateurs par arc APA 2 à 63 à 124 à 16Sources de pulvérisation magnétron 1 à 31 à 41 à 4Puissances disponibles CC, CC pulsé, HiPIMS, pulsé bipolaire, MF (RF sur demande)Nettoyage plasma Tous les systèmes sont équipés du procédé de décapage au plasma breveté AEGDTable de substrat standard
(autres tables sur demande)5 arbres6 arbres9 arbres
Équipement à chambre libre et deux portes
Les versions flexibles sont parfaitement conçues pour l'intégration ultérieure d'une nouvelle technologie, ainsi que pour une intégration d'exemple dans des procédés de production automatisés.
Propriétés METAPLAS.DOMINO kila flexMETAPLAS.DOMINO giga flexVolume de dépôt utilisable Ø 620 mm x 700 mmØ 1,200 mm x 1,500 mmModules de dépôt disponibles Arc, pulvérisation, HiPIMS, HI3, nitruration, DLC, ta-CÉvaporateurs par arc APA 4 à 168 à 32Sources de pulvérisation magnétron 1 à 61 à 4Puissances disponibles CC, CC pulsé, HiPIMS, pulsé bipolaire, MF (RF sur demande)Nettoyage plasma Tous les systèmes sont équipés du procédé de décapage au plasma breveté AEGDTable de substrat standard
(autres tables sur demande)9 arbresJusqu'à 32 arbres -
Autres informations
Autres informations
Principaux modules
Arc
APA (Advanced Plasma Assisted), la technologie innovante d'évaporation sous vide par arc cathodique offres diverses possibilités de développement pour de nouvelles structures de revêtements.
Avantages :
- Une utilisation intensive des cibles pour de faibles coûts de cibles
- Vitesses de dépôt élevées
- Champs magnétiques réglables
- Temps de changement de cibles réduits
- Haute densité de plasma
- Diminution des macro-particules
- Excellente adhérence de la couche
HiPIMS
HiPIMS signifie High-Power Impulse Magnetron Sputtering, autrement dit Pulvérisation cathodique magnétron pulsé à haute puissance.
Avantages :
- Taux d'ionisation élevée (semblable à l'arc)
- Densités haute puissance de 100 à 1000 W/cm2
- Très haute densité du plasma
- Réglage des structures de revêtements via les paramètres du plasma
- Revêtements parfaitement lisses
- Parfaite adhérence de la couche
- Dépôt de revêtements denses à basse température des substrats
Modules supplémentaires
Pulvérisation
Lors du processus de pulvérisation, les atomes sont extraits d'une cible par bombardement d'ions à haute énergie (Ar) et transformés en phase gazeuse. En combinant les matériaux pulvérisés avec des gaz supplémentaires, un revêtement est déposé sur le substrat.
Avantages :
- Possibilité de déposer sur une large gamme de matériaux
- Plusieurs variantes de process sont disponibles
- Revêtements lisses
- Procédé de décapage au plasma AEGD pour une bonne adhérence de la couche
Nitruration
Grâce au module de nitruration, il est possible d'exécuter le procédé de nitruration plasma avant le procédé PDV et / ou PACVD en un système et une charge. Cela permet de produire une couche solidifiée offrant un excellent support au revêtement PVD / PACVD final.
Avantages :
- Optimisation des propriétés de l'outil et du composant
- Substitution de matériaux de base onéreux
- Durée de vie considérablement prolongée
- Tous les revêtements PVD peuvent être appliqués
DLC
DLC signifie Diamond-Like Carbon (carbone adamantin) et se réfère à un groupe de revêtements en carbone amorphe à coefficient de frottement extrêmement faibles. Le module DLC permet de produire différents revêtements DLC via les procédés PVD et / ou PACVD. Les revêtements DLC standards sont en carbone non métallique ou métallique.
Avantages :
- Excellente adhérence de la couche
- Résistance à l'usure élevée
- Faible coefficient de frottement
- Revêtements lisses
ta-C
ta-C signifie carbone amorphe tétraédrique sans hydrogène et se réfère à un groupe de revêtements en carbone amorphe extrêmement durs et à faibles coefficients de frottement.
Le module ta-C permet de produire différents revêtements en ta-C.
Avantages :
- Pour des températures plus élevées que le DLS
- Résistance à l'usure très élevée
- Excellente adhérence de la couche
- Lissé des revêtements