METAPLAS.DOMINOEine Technologie-Plattform – viele Möglichkeiten
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Mehrere Module, angepasst an die individuellen Anforderungen und variabel zu einem großen Ganzen vereinbar – das ist die Grundlage der METAPLAS.DOMINO. Unsere Erfahrungen aus 30 Jahren im Bereich Werkzeugmaschinen sind eingeflossen, um modernste Technologien für die Dünnfilm-Beschichtung zu entwickeln.
Damit bietet Oerlikon Balzers leistungsstarke Systemlösungen und setzt neue Trends im Bereich der Beschichtungen. Das modulare und flexible Konzept der Dünnfilm-Beschichtungsanlage ermöglicht auch nachträgliche Erweiterungen und Upgrades.
- Hohe Prozesssicherheit
- Kurze Zykluszeiten
- Niedrige Stückkosten
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Vorteile
Vorteile
- Flexibilität, vielfältige modulare Erweiterungsmöglichkeiten
- Maßgeschneiderte Beschichtungslösungen
- Geringstmöglicher Wartungsaufwand und Ersatzteilbedarf
- Effizienter After-Sales-Service
HI3 – High Ionization Triple Hybridtechnologie (Arc+HiPIMS)
in Kombination mit dem AEGD-Plasmaätzen:
- Kombinierte Stärke von 3 Prozessen in einer PVD-Anlage
- Hervorragende Schichthaftung, hohe Abscheiderate, glatte Beschichtungen, wirtschaftliche Produktion
- Innovativer Ansatz für die nächste Generation von PVD-Beschichtungen für verschiedene Anwendungen
- HI3-Technologie ermöglicht ein breites Spektrum von Schichtarchitekturen
- Mit der HI3-Technologie lassen sich Beschichtungen dank einer Vielzahl von möglichen Materialien, Mikro-Legierungen, Dotierungen und durch die spezifische Gestaltung des Schichtaufbaus bedarfsgerecht konfigurieren, und das alles bei höchster Wirtschaftlichkeit!
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Spezifikationen
Anlage mit integrierter Kammer
Kompakte Anlage in unterschiedlichen Größen für jeglichen Produktionsbedarf
Eigenschaften METAPLAS.DOMINO picaMETAPLAS.DOMINO micraMETAPLAS.DOMINO kilaVerwendbares Beschichtungsvolumen Ø 330 mm x 300 mmØ 450 mm x 500 mmØ 620 mm x 700 mmErhältliche Beschichtungsmodule Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitrieren, DLC, ta-CARC-Verdampfer 2 bis 63 bis 124 bis 16Magnetron-Sputterquellen 1 bis 31 bis 41 bis 4Verfügbare Power Supplies DC, DC Pulse, HIPIMS, bipolar gepulst, MF (RF auf Anfrage)Plasma-Ätzen Alle Anlagen sind mit dem patentierten, leistungsstarken Ätzprozess AEGD ausgestattetStandard Substrattisch
(weitere auf Anfrage)5 Spindeln6 Spindeln9 Spindeln
Anlage mit freistehender Kammer und zwei Türen
Die flex-Versionen sind bereits heute auf die künftige Einbindung neu entwickelter Technologien sowie auf die Integration in automatisierte Produktionsprozesse ausgelegt.
Eigenschaften METAPLAS.DOMINO kila flexMETAPLAS.DOMINO giga flexVerwendbares Beschichtungsvolumen Ø 620 mm x 700 mmØ 1.200 mm x 1.500 mmErhältliche Beschichtungsmodule Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitrieren, DLC, ta-CARC-Verdampfer 4 bis 168 bis 32Magnetron-Sputterquellen 1 bis 61 bis 4Verfügbare Power Supplies DC, DC Pulse, HIPIMS, bipolar gepulst, MF (RF auf Anfrage)Plasma-Ätzen Alle Anlagen sind mit dem patentierten, leistungsstarken Ätzprozess AEGD ausgestattetStandard Substrattisch
(weitere auf Anfrage)9 SpindelnBis zu 32 Spindeln -
Weitere Informationen
Weitere Informationen
Hauptmodule
Arc
Die innovative APA-Verdampfertechnologie (Advanced Plasma Assisted) basiert auf der kathodischen Vakuum-Bogenverdampfung und bietet diverse Möglichkeiten, neue Schichtarchitekturen zu entwickeln.
Vorteile:
- erhöhte Targetausnutzung führt zu geringeren Targetkosten
- hohe Beschichtungsrate
- anpassbare Magnetfelder
- kurze Targetwechselzeiten
- hohe Plasmadichte
- weniger Makropartikel
- exzellente Schichthaftung
HiPIMS
HiPIMS steht für High-Power Impulse Magnetron Sputtering.
Vorteile:
- hohe Ionisierungsrate (mit Bogen vergleichbar)
- hohe Leistungsdichte von 100 bis 1.000 W/cm2
- sehr hohe Plasmadichte
- Aufbau der Schichten über Parameter anpassbar
- sehr glatte Beschichtungen
- exzellente Schichthaftung
- Abscheidung von dichten Schichten bei niedrigen Substrattemperaturen
Zusatzmodule
Sputter
Beim Sputtern (Zerstäuben) werden Atome aus einem Target durch Beschuss mit energiereichen Ionen (Argon) herausgelöst und in die Gasphase überführt. Durch Kombination mit weiteren Gasen wird das zerstäubte Material anschließend schichtweise auf einem Substrat aufgebracht.
Vorteile:
- ein breites Spektrum an Materialien kann zerstäubt werden
- unterschiedliche Verfahrensvarianten sind möglich
- glatte Schichten
- gute Schichthaftung bei Kombination mit dem leistungsstarken Ätzprozess AEGD
Nitrieren
Mit dem Nitriermodul lässt sich noch vor der eigentlichen PVD- und/oder PACVD-Beschichtung in nur einer Anlage und einer einzigen Charge ein Plasmanitrierschritt einfügen. Dabei wird eine unterstützende und gehärtete Oberfläche für die nachfolgende PVD/PACVD-Schicht erzeugt.
Vorteile:
- optimale Einstellung für Werkzeuge und Komponenten
- Wegfall von teuren Basismaterialien
- deutlich erhöhte Standzeiten
- alle Arten von PVD-Beschichtungen sind möglich
DLC
DLC steht für Diamond-Like Carbon und bezeichnet eine Gruppe von amorphen Kohlenstoffschichten mit besonders geringer Reibung. Mit dem DLC-Modul lassen sich verschiedene Arten von DLC-Beschichtungen mittels eines PVD- und/oder PACVD-Prozesses herstellen. Standardmäßig bestehen DLC-Beschichtungen aus metallfreien oder metallhaltigen Kohlenstoffschichten.
Vorteile:
- exzellente Schichthaftung
- hohe Verschleißfestigkeit
- geringer Reibungskoeffizient
- glatte Schichten
ta-C
ta-C steht für tetraedrische amorphe Kohlenstoffe und bezeichnet eine Gruppe von extrem harten Kohlenstoff-beschichtungen mit besonders geringer Reibung. Mit dem ta-C-Modul lassen sich verschiedene ta-C-Schichten erzeugen.
Vorteile:
- höhere Temperaturbeständigkeit als DLC
- sehr hohe Verschleißfestigkeit
- exzellente Schichthaftung
- glatte Schichten