PACVD Plasma-Assisted Chemical Vapour Deposition (Plasma-aktivierte chemische Dampfabscheidung)

Was sind PACVD-Beschichtungen?

Zur Herstellung metallfreier Kohlenstoffschichten setzt Oerlikon Balzers das Hochfrequenz-PACVD-Verfahren ein.

Die Prozessanordnung ähnelt der des Sputterns, welches häufig in Kombination mit CVD verwendet wird. Beim PACVD-Verfahren wird ein Gas, das Elemente des Schichtmaterials enthält, in die Vakuumkammer geleitet. Danach wird ein Entladungsbogen durch eine Wechselspannung gezündet.

Dabei entstehen freie Kohlenstoff- und Wasserstoff-Atome (Ionen und Radikale), die auf Werkzeugen und Bauteilen eine kompakte Schicht bilden. Die Schichteigenschaften können durch Veränderung der angelegten Spannung beeinflusst werden.

 

1. 1. Argon
2. 2. Reaktives Gas
3. 3. Bauteile/Werkzeuge
4. 4. Planare Magnetron-Zerstäubungsquelle (Beschichtungsmaterial)
5. 5. Hochfrequenzanschluss
6. 6. Vakuumpumpe