PACVD Plasma-Assisted Chemical Vapour Deposition (Plasma-aktivierte chemische Dampfabscheidung)

Was sind PACVD-Beschichtungen?
Zur Herstellung metallfreier Kohlenstoffschichten setzt Oerlikon Balzers das Hochfrequenz-PACVD-Verfahren ein.Die Prozessanordnung ähnelt der des Sputterns, welches häufig in Kombination mit CVD verwendet wird. Beim PACVD-Verfahren wird ein Gas, das Elemente des Schichtmaterials enthält, in die Vakuumkammer geleitet. Danach wird ein Entladungsbogen durch eine Wechselspannung gezündet.
Dabei entstehen freie Kohlenstoff- und Wasserstoff-Atome (Ionen und Radikale), die auf Werkzeugen und Bauteilen eine kompakte Schicht bilden. Die Schichteigenschaften können durch Veränderung der angelegten Spannung beeinflusst werden.
- 1. Argon
- 2. Reaktives Gas
- 3. Bauteile/Werkzeuge
- 4. Planare Magnetron-Zerstäubungsquelle (Beschichtungsmaterial)
- 5. Hochfrequenzanschluss
- 6. Vakuumpumpe