Die DOMINO micra erfüllt die Anforderungen an fast alle Herausforderungen auf einer Plattform.
Sie erlaubt eine Ausrüstung mit verschiedensten Technologien nach Kundenanforderungen und bietet speziell als HiPIMS-Anlage eine perfekte Basis.
- APA Arc, HiPIMS-Sputtern oder Hybrid -Technologie
- HiPIMS-Sputtern mit 4 Magnetrons und synchronisierter, bipolar gepulster BIAS
- Kombination auch mit PACVD und Nitrierprozess
- Nachrüstung unterschiedlichster Technologien je nach Kundenanforderungen
| Eigenschaften | DOMINO micra |
|---|---|
| Anlagentyp | compact (1 Kammertür) |
| Verwendbares Beschichtungsvolumen | Ø 450 mm x 500 mm |
| Erhältliche Beschichtungsmodule | Arc, Sputter, HiPIMS, Hybrid, Nitriding |
| ARC-Verdampfer | 3 bis 12 |
| Magnetron-Sputterquellen | 1 bis 4 |
| Verfügbare Leistungsversorgungen | DC, DC Puls, Mittelfrequenz (MF), HiPIMS, (HF auf Anfrage) |
| Verfügbare BIAS | bipolar gepulst, Mittelfrequenz |
| Plasma-Ätzen | Alle Anlagen sind mit dem patentierten, leistungsstarken Ätzprozess AEGD ausgestattet |
| Standard Substrattisch (weitere auf Anfrage) |
6 Spindeln |