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SUCOTEC 高品质 CVD 涂层设备

SUCOTEC kila, mega 和 giga 系列是欧瑞康巴尔查斯的新一代高品质 CVD 涂层系统。在全球范围的广泛使用中，这些系统已经证明了在生产纳米层、多层膜和新近发展的涂层方面具有出色的性能、高度灵活性和可靠性。

所有 SUCOTEC CVD 系统中的涂层工艺均在 40 mbar 至 800 mbar abs 的压力下进行。温度范围为 700 °C 至 1040 °C。所有指定的组件都经过工业验证，符合最高期望。
所有加热管和阀门均采用预制材料绝缘，以实现最佳效率，避免皮肤受刺激。

可以使用基本配置沉积的典型涂层: TiN, TiC, TiCN, MT-TiCN

前驱

气体: Ar, H₂, N₂, HCI, CH₄, H₂S, CO₂, CO	最多 25 个质量流量控制器 (MFC)
液体: TiCI₄, CH₃CN	2 科氏力

所有 SUCOTEC 系统的可扩展性允许额外的气体和前趋体，这意味着它们为未来的发展和趋势做好了充分的准备。总的来说，SUCOTEC 系统可扩展到以下选项:

特殊涂层*

需求

纳米柱状MT-TiCN, TiSiN, TiSiCN	Ar, C₂H₆, C₂H₄, SiCl₄
α-AI₂0₃ , k-AI₂0₃	铝发生器 (ALGE)温度 <350°C
TiAlN 和 TiAlCN (fcc** 或高铝含量的混合 fcc/h)	NH₃, Ar, N₂ 附加气体入口、气体加热和气体分配, ALGE
ZrN, ZrCN, ZrBCN, ZrO₂, HfN, HfCN	金属氯化器 (MEGE)温度 <450°C
Cr₂O₃, CrC_x	温度范围为 700 - 1000°C 的内部氯化器
TiB₂, TiBN, MT-TiBCN	BCl₃, Ar

* 专利：欧瑞康巴尔查斯股份有限公司对任何个人或各方就任何国家的任何专利提出的侵犯专利权的任何索赔不承担任何责任，无论该索赔是否能够证实。
** 面心立方晶体结构