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低真空 (LVPS™) / 低压 (LPPS™) 等离子喷涂系统

低真空 (LVPS™) / 低压 (LPPS™) 等离子喷涂系统

系统基于我们久经考验且高度可靠的 ChamPro™ 涂层工艺,设计用于具有以下独特功能的大批量生产涂层(例如动叶和静叶):

  • 典型腔室压力从 20 mbar 至 300 mbar 的喷涂过程
  • 用于工件清洁(去除氧化层)的反转转移弧
  • 高能等离子炬输出高达 120 kW 的高焓等离子流
  • 最大喷涂部件重量(包括固定装置)最大为 60 kg
  • 使用四轴喷枪机械手,通过先进的 CNC 系统控制喷涂零件的运动

这些系统属性赋予了真空等离子涂层工艺的先进特性:

  • 非常灵活的操作条件
  • 薄、厚涂层均可应用
  • 较缓慢的涂层凝固 => 控制残余应力
  • 等离子射流的集束形状可带来高沉积效率

涂层工艺所描述的基本概念和工作流程如下。

  1. 将零件装载到叉架夹爪中
  2. 关闭传输腔室,抽至初始真空
  3. 用氩气充回传输腔室的工作压力
  4. 打开主腔室的闸阀
  5. 将零件传输到主腔室中预热、进行 T/A 清洁和零件涂覆
  6. 将零件送回传输腔室
  7. 闸阀关闭
  8. 冷却周期,之后将传输腔室充回大气压
  9. 手动或使用装置卸载零件

选择适当的等离子条件(腔室压力、等离子功率、气体流量等)和零件程序后,操作员将工件直接装载到工件操纵器(“叉架”)端。然后将装载装置收回,并关闭腔门。关闭腔门后,将传输腔室排空,然后激活系统。排空程序完成后,将零件放在叉架上,送至喷涂室,在此对其进行预热、转移弧清洁和等离子喷涂。喷涂过程完成后,零件和叉架将返回传输腔室,在此零件被冷却并卸下。

LVPS 系统工艺产生很高的射流速度和后续高颗粒速度,赋予颗粒高动能,从而形成很致密的涂层结构。可以将其与锻造过程进行比较,在锻造过程中,冲击产生的能量会产生细晶粒的致密材料。

不同的系统配置可满足您的要求:

  • 一或两零件的机械手(叉架)
  • 短或长零件的机械手(叉架)
  • 小型或大型主腔室
  • 小型或大型闸阀
  • 手动、半自动或全自动零件装载
  • 传输腔室中的零件预热
  • 过程诊断设备
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