Choose your country / language

กระบวนการแบบ PVD

กระบวนการ PVD

กระบวนการแบบ PVD
การเคลือบผิวแบบ PVD คืออะไร?

PVD ย่อมาจาก Physical Vapour Deposition หรือการตกเคลือบด้วยไอทางกายภาพ ซึ่งเป็นกระบวนการที่ทำภายใต้สภาวะสุญญากาศระดับสูง และโดยส่วนใหญ่จะใช้อุณหภูมิตั้งแต่ 150 ถึง 500°C

กระบวนการ PVD มีลักษณะการทำงานอย่างไร?

ในกระบวนการเคลือบผิวแบบ PVD สารเคลือบที่เป็นของแข็งความบริสุทธิ์สูง (โลหะ เช่น ไทเทเนียม โครเมียม และอะลูมิเนียม) จะถูกนำมาระเหยด้วยความร้อนหรือโดยการยิงไอออน (สปัตเตอริ่ง) พร้อมกับมีการเติมก๊าซที่ไวต่อปฏิกิริยา (เช่น ไนโตรเจนหรือก๊าซที่มีส่วนประกอบของคาร์บอน) ในเวลาเดียวกัน ซึ่งจะทำให้เกิดเป็นสารประกอบกับไอระเหยของโลหะ จากนั้น จึงตกเคลือบสารดังกล่าวลงบนเครื่องมือหรือชิ้นงาน โดยชั้นเคลือบผิวจะมีลักษณะบางและมีคุณสมบัติการยึดเกาะสูง การปรับความหนาของชั้นเคลือบผิวให้สม่ำเสมอกันนั้นจะทำโดยการหมุนชิ้นงานด้วยความเร็วคงที่รอบแกนหลายๆ แกน

วิธีการนี้สามารถที่จะควบคุมคุณสมบัติของการเคลือบผิว (เช่น ความแข็ง โครงสร้าง ความต้านทานสารเคมีและอุณหภูมิ การยึดเกาะ) ได้อย่างแม่นยำ

กระบวนการ PVD ได้แก่ การะเหยด้วยอาร์ค การทำสปัตเตอริ่ง การชุบไอออน และการทำสปัตเตอริ่งแบบประสิทธิภาพสูง

นอกเหนือจากกระบวนการ PVD ที่ได้รับความนิยมทั่วไปแล้ว เออร์ลิคอน บัลเซอร์สยังมีบริการเคลือบผิวด้วยกระบวนการแบบพิเศษที่เราเป็นผู้พัฒนาขึ้นเองด้วยเช่นกัน

keyboard_arrow_up