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BALORA HALONA

BALORA HALONA 탁월한 내식성으로 반도체 공정에서 장기간 안정적 성능을 제공

Semiconductor etch chamber component

BALORA® HALONA는 고난도 플라즈마 에칭 공정용으로 설계된 PVD코팅으로 탁월한 화학적 안정성과 내마모성을 제공하여 현재와 미래 반도체 공정의 요구 사항들을 충족시킵니다.

  • pdf (1.08 MB)

    Advanced coatings for critical semiconductor components

    Maximizing Performance. Boosting Uptime. Reducing Costs.

    Advanced coatings for critical semiconductor components

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