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METAPLAS DOMINO pica
METAPLAS DOMINO kila
METAPLAS DOMINO kila flex
METAPLAS DOMINO giga flex

Adaptamos múltiples módulos a las demandas individuales y desarrollamos una gran unidad - esta es la base de METAPLAS.DOMINO. El equipo de fabricación de recubrimientos finos de última generación ha sido desarrollado con el conocimiento de casi 30 años de experiencia en la industria de fabricación de herramientas.

Para Oerlikon Balzers, esto significa ofrecer soluciones en sistema eficientes y aun marcar tendencias en tratamiento superficial. El concepto modular y flexible del equipo de fabricación de recubrimientos finos permite aun más expansiones y actualizaciones.

  • Alta fiabilidad del proceso
  • Tiempos de ciclo cortos
  • Bajos costos por pieza

Equipo con cámara integrada

Equipo compacto en diferentes tamaños para todas las necesidades de producción.

Propiedades

METAPLAS.DOMINO pica

Volumen útil de recubrimiento

Ø 330 mm x 300 mm

Módulos de recubrimiento disponibles Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C
Evaporadores de arco APA 2 a 6
Fuentes de pulverización del magnetrón 1 a 3
Suministros de energía disponibles

DC, DC pulse, HiPIMS, bipolar pulsed, MF (RF upon request)

Limpieza de plasma

All systems equipped with patented power etching process AEGD

Tabla de substrato estándar
(otras por solicitud)
5 ejes
Propiedades

METAPLAS.DOMINO micra

Volumen útil de recubrimiento

Ø 450 mm x 500 mm

Módulos de recubrimiento disponibles Arco, Pulverización, HiPIMS, HI3, Nitruración, DLC, ta-C
Evaporadores de arco APA 3 a 12
Fuentes de pulverización del magnetrón 1 a 4
Suministros de energía disponibles DC, DC pulso, HiPIMS, bipolar pulsado, MF (RF por solicitud)
Limpieza de plasma Todos los sistemas equipados con el proceso de grabado por energía AEGD patentado
Tabla de substrato estándar
(otras por solicitud)
6 ejes
Propiedades

METAPLAS.DOMINO kila

Volumen útil de recubrimiento

Ø 620 mm x 700 mm

Módulos de recubrimiento disponibles Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C
Evaporadores de arco APA 4 a 16
Fuentes de pulverización del magnetrón 1 a 4
Suministros de energía disponibles

DC, DC pulse, HiPIMS, bipolar pulsed, MF (RF upon request)

Limpieza de plasma

All systems equipped with patented power etching process AEGD

Tabla de substrato estándar
(otras por solicitud)
9 ejes

Equipo con cámara libre y dos puertas

Las versiones flex están perfectamente diseñadas para la futura integración de tecnología recién desarrollada, así como la integración en procesos de producción automatizada.

Propiedades

METAPLAS.DOMINO kila flex

Volumen útil de recubrimiento

Ø 620 mm x 700 mm

Módulos de recubrimiento disponibles

Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C

Evaporadores de arco APA 4 a 16
Fuentes de pulverización del magnetrón 1 a 6
ASuministros de energía disponibles DC, DC pulse, HiPIMS, bipolar pulsed, MF (RF upon request)
Limpieza de plasma

All systems equipped with patented power etching process AEGD

Tabla de substrato estándar
(otras por solicitud)
9 ejes
Propiedades

METAPLAS.DOMINO giga flex

Volumen útil de recubrimiento

Ø 1,200 mm x 1,500 mm

Módulos de recubrimiento disponibles

Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C

Evaporadores de arco APA 8 a 32
Fuentes de pulverización del magnetrón 1 a 4
ASuministros de energía disponibles DC, DC pulse, HiPIMS, bipolar pulsed, MF (RF upon request)
Limpieza de plasma

All systems equipped with patented power etching process AEGD

Tabla de substrato estándar
(otras por solicitud)
Hasta 32 ejes

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