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METAPLAS.DOMINO 一个技术平台，实现各种可能性

METAPLAS DOMINO pica
METAPLAS DOMINO kila
METAPLAS DOMINO kila flex
METAPLAS DOMINO giga flex

根据个人需求量身定制多种模块，创建一个伟大的单元 –这是METAPLAS.DOMINO的基础。在工具制造行业近30年的经验开发出此最先进的薄膜设备。

对欧瑞康巴尔查斯来说，这意味着提供高效的系统解决方案，甚至设定表面处理的趋势。薄膜设备的模块化和灵活性概念允许进一步的扩展和升级。

  • 工艺稳定性高
  • 周期时间短
  • 单件成本低

设备拥有集成腔室

拥有不同尺寸的紧凑型设备，适合所有生产需求。

属性

METAPLAS.DOMINO pica
可用涂层容量

Ø 330 mm x 300 mm
可用涂层模块 Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C
APA 电弧蒸发器

2 to 6
磁控溅射源

1 to 3
可用电源供应

DC, DC pulse, HiPIMS, bipolar pulsed, MF (RF upon request)
等离子清洁

All systems equipped with patented power etching process AEGD
标准工作台(其他可根据需求)

5 轴
属性

METAPLAS.DOMINO micra
可用涂层容量

Ø 450 mm x 500 mm
可用涂层模块 Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C
APA 电弧蒸发器

3 to 12
磁控溅射源

1 to 4
可用电源供应

DC, DC pulse, HiPIMS, bipolar pulsed, MF (RF upon request)
等离子清洁

All systems equipped with patented power etching process AEGD
标准工作台(其他可根据需求)

6 shafts
属性

METAPLAS.DOMINO kila
可用涂层容量

Ø 620 mm x 700 mm
可用涂层模块 Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C
APA 电弧蒸发器

4 to 16
磁控溅射源

1 to 4
可用电源供应

DC, DC pulse, HiPIMS, bipolar pulsed, MF (RF upon request)
等离子清洁

All systems equipped with patented power etching process AEGD
标准工作台(其他可根据需求)

9 shafts

 设备带有自由腔体和两扇门

Flex版本是对未来新开发的技术进行整合的完美设计，例如整合进自动化生产工艺

属性

METAPLAS.DOMINO kila flex
可用涂层容量

Ø 620 mm x 700 mm
可用涂层模块

Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C
APA 电弧蒸发器

4 to 16
磁控溅射源

1 to 6
可用电源供应 DC, DC pulse, HiPIMS, bipolar pulsed, MF (RF upon request)
等离子清洁

All systems equipped with patented power etching process AEGD
标准工作台(其他可根据需求)

9 shafts
属性

METAPLAS.DOMINO giga flex
可用涂层容量

Ø 1,200 mm x 1,500 mm
可用涂层模块

Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C
APA 电弧蒸发器

8 to 32
磁控溅射源

1 to 4
可用电源供应 DC, DC pulse, HiPIMS, bipolar pulsed, MF (RF upon request)
等离子清洁

All systems equipped with patented power etching process AEGD
标准工作台(其他可根据需求)

Up to 32 shafts

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