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METAPLAS.DOMINO一个技术平台,实现各种可能性

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METAPLAS.DOMINO pica
METAPLAS. DOMINO micra
METAPLAS.DOMINO kila
METAPLAS.DOMINO kila flex
METAPLAS.DOMINO giga flex

根据个人需求量身定制多种模块,创建一个伟大的单元 –这是METAPLAS.DOMINO的基础。在工具制造行业近30年的经验开发出此最先进的薄膜设备。

对欧瑞康巴尔查斯来说,这意味着提供高效的系统解决方案,甚至设定表面处理的趋势。薄膜设备的模块化和灵活性概念允许进一步的扩展和升级。

  • 优点

    优点

    • 灵活、多样的模块扩展选择
    • 个性化定制涂层
    • 维护和备件需求最少
    • 高效的售后服务

    HI3 –三倍高电离
    结合AEGD等离子刻蚀的混合技术(Arc+HiPIMS):

    HI3
     
    HI3
    • 在一个PVD系统中,结合三种工艺的优势
    • 结合力好,沉积率高,涂层光滑,经济生产
    • 适用于不同应用的下一代PVD涂层的创新方法
    • HI3技术可以实现不同的层结构
    • 使用HI3技术,涂层可以通过不同材料,微合金化,反应材料添加和设计层结构来进行定制,同时结合经济生产!
  • 规格

    设备拥有集成腔室

    拥有不同尺寸的紧凑型设备,适合所有生产需求。

      METAPLAS.DOMINO pica METAPLAS.DOMINO micra METAPLAS.DOMINO kila
    属性
    METAPLAS.DOMINO pica
    METAPLAS.DOMINO micra
    METAPLAS.DOMINO kila
    可用涂层容量
    Ø 330 mm x 300 mm
    Ø 450 mm x 500 mm
    Ø 640 mm x 700 mm
    可用涂层模块
    Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C
    APA 电弧蒸发器
    2 - 6
    3 - 12
    4 - 16
    磁控溅射源
    1 - 3
    1 - 4
    1 - 4
    可用电源供应
    DC, DC pulse, HiPIMS, 双向脉冲, MF (RF根据需求)
    等离子清洁
    所有系统配备专利设计的刻蚀工艺AEGD
    标准工作台(其他可根据需求)
    5 轴
    6 轴
    9 轴
     

    设备带有自由腔体和两扇门

    Flex版本是对未来新开发的技术进行整合的完美设计,例如整合进自动化生产工艺。

      METAPLAS.DOMINO kila flex METAPLAS.DOMINO giga flex
    属性
    METAPLAS.DOMINO kila flex
    METAPLAS.DOMINO giga flex
    可用涂层容量
    Ø 640 mm x 700 mm
    Ø 1,200 mm x 1,500 mm
    可用涂层模块
    Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-C
    APA 电弧蒸发器
    4 - 16
    8 - 32
    磁控溅射源
    1 - 6
    1 - 4
    可用电源供应
    DC, DC pulse, HiPIMS, 双向脉冲, MF (RF根据需求)
    等离子清洁
    所有系统配备专利设计的刻蚀工艺AEGD
    标准工作台(其他可根据需求)
    9 轴
    多达 32 轴
     
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    主要模块

    Arc

    Arc

    创新的APA蒸发器技术(先进的等离子辅助)基于阴极真空电弧,为新的层结构提供了多种开发可能性。

    优势:

    • 靶材使用率高,降低靶材成本
    • 沉积率高
    • 磁场可调节
    • 靶材更换时间短
    • 等离子体密度高
    • 等离子体密度高
    • 完美的涂层结合力

    HiPIMS

    HiPIMS

    HiPIMS代表高功率脉冲磁控溅射。
     

    优势:

    • 电离率高(类似于电弧法)
    • 高功率密度,从 100 到1000 W/cm2
    • 等离子密度非常高
    • 可以通过等离子参数设置来调节层结构
    • 涂层非常光滑
    • 完美的涂层结合力
    • 在低基材温度下沉积致密的涂层
     

    其他模块

    溅射

    Sputter

    在溅射工艺中,通过高能离子(Ar)轰击靶材,分离成原子进而转化成气相。通过结合溅射材料和其他气体,将涂层沉积在基材上。

    优势:

    • 可以溅射多种材料
    • 多种工艺变量可用
    • 光滑的涂层
    • 结合功率刻蚀工艺AEGD获得好的涂层结合力

    氮化

    Nitriding

    使用氮化模块,可在同一个系统、同一个批次,在PVD和/或PACVD涂层工艺之前进行等离子氮化工艺。由此生成一个硬化层,为后续的PVD/PACVD涂层提供完美的支撑。

    优势:

    • 优化工具和零部件属性
    • 替代昂贵的基材
    • 显著延长寿命
    • 可以应用所有PVD涂层

     

    DLC

    DLC

    DLC就是类金刚石涂层,指一系列具有超低摩擦系数的非晶碳涂层。使用DLC模块,可以通过使用PVD和/或PACVD工艺来生成不同的DLC涂层。标准DLC涂层包括不含金属或含金属的碳基涂层。

    优势:

    • 完美的涂层结合力
    • 高耐磨性
    • 低摩擦系数
    • 光滑的涂层

    ta-C

    ta-C

    ta-C 就是不含氢的四面体非晶碳,指的是一组极硬、低摩擦的非晶碳涂层。使用ta-C模块可以生产不同的ta-C涂层。
     
     

    优势:

    • 适用于比DLC更高的温度环境
    • 非常高的耐磨性
    • 完美的涂层结合力
    • 光滑的涂层

     

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