METAPLAS.DOMINO一个技术平台，实现各种可能性
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根据个人需求量身定制多种模块，创建一个伟大的单元 –这是METAPLAS.DOMINO的基础。在工具制造行业近30年的经验开发出此最先进的薄膜设备。
对欧瑞康巴尔查斯来说，这意味着提供高效的系统解决方案，甚至设定表面处理的趋势。薄膜设备的模块化和灵活性概念允许进一步的扩展和升级。
- 工艺稳定性高
- 周期时间短
- 单件成本低
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优点
优点
- 灵活、多样的模块扩展选择
- 个性化定制涂层
- 维护和备件需求最少
- 高效的售后服务
HI3 –三倍高电离
结合AEGD等离子刻蚀的混合技术(Arc+HiPIMS):
- 在一个PVD系统中，结合三种工艺的优势
- 结合力好，沉积率高，涂层光滑，经济生产
- 适用于不同应用的下一代PVD涂层的创新方法
- HI3技术可以实现不同的层结构
- 使用HI3技术，涂层可以通过不同材料，微合金化，反应材料添加和设计层结构来进行定制，同时结合经济生产！
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规格
设备拥有集成腔室
拥有不同尺寸的紧凑型设备，适合所有生产需求。
属性 METAPLAS.DOMINO picaMETAPLAS.DOMINO micraMETAPLAS.DOMINO kila可用涂层容量 Ø 330 mm x 300 mmØ 450 mm x 500 mmØ 620 mm x 700 mm可用涂层模块 Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-CAPA 电弧蒸发器 2 - 63 - 124 - 16磁控溅射源 1 - 31 - 41 - 4可用电源供应 DC, DC pulse, HiPIMS, 双向脉冲, MF (RF根据需求)等离子清洁 所有系统配备专利设计的刻蚀工艺AEGD标准工作台(其他可根据需求) 5 轴6 轴9 轴
设备带有自由腔体和两扇门
Flex版本是对未来新开发的技术进行整合的完美设计，例如整合进自动化生产工艺。
属性 METAPLAS.DOMINO kila flexMETAPLAS.DOMINO giga flex可用涂层容量 Ø 620 mm x 700 mmØ 1,200 mm x 1,500 mm可用涂层模块 Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding, DLC, ta-CAPA 电弧蒸发器 4 - 168 - 32磁控溅射源 1 - 61 - 4可用电源供应 DC, DC pulse, HiPIMS, 双向脉冲, MF (RF根据需求)等离子清洁 所有系统配备专利设计的刻蚀工艺AEGD标准工作台(其他可根据需求) 9 轴多达 32 轴 -
更多信息
主要模块
Arc
创新的APA蒸发器技术（先进的等离子辅助）基于阴极真空电弧，为新的层结构提供了多种开发可能性。
优势:
- 靶材使用率高，降低靶材成本
- 沉积率高
- 磁场可调节
- 靶材更换时间短
- 等离子体密度高
- 等离子体密度高
- 完美的涂层结合力
HiPIMS
HiPIMS代表高功率脉冲磁控溅射。
优势:
- 电离率高（类似于电弧法）
- 高功率密度，从 100 到1000 W/cm2
- 等离子密度非常高
- 可以通过等离子参数设置来调节层结构
- 涂层非常光滑
- 完美的涂层结合力
- 在低基材温度下沉积致密的涂层
其他模块
溅射
在溅射工艺中，通过高能离子（Ar）轰击靶材，分离成原子进而转化成气相。通过结合溅射材料和其他气体，将涂层沉积在基材上。
优势:
- 可以溅射多种材料
- 多种工艺变量可用
- 光滑的涂层
- 结合功率刻蚀工艺AEGD获得好的涂层结合力
氮化
使用氮化模块，可在同一个系统、同一个批次，在PVD和/或PACVD涂层工艺之前进行等离子氮化工艺。由此生成一个硬化层，为后续的PVD/PACVD涂层提供完美的支撑。
优势:
- 优化工具和零部件属性
- 替代昂贵的基材
- 显著延长寿命
- 可以应用所有PVD涂层
DLC
DLC就是类金刚石涂层，指一系列具有超低摩擦系数的非晶碳涂层。使用DLC模块，可以通过使用PVD和/或PACVD工艺来生成不同的DLC涂层。标准DLC涂层包括不含金属或含金属的碳基涂层。
优势:
- 完美的涂层结合力
- 高耐磨性
- 低摩擦系数
- 光滑的涂层
ta-C
ta-C 就是不含氢的四面体非晶碳，指的是一组极硬、低摩擦的非晶碳涂层。使用ta-C模块可以生产不同的ta-C涂层。
优势:
- 适用于比DLC更高的温度环境
- 非常高的耐磨性
- 完美的涂层结合力
- 光滑的涂层
