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BALORA HALONA

BALORA HALONA Proteção Superior contra Corrosão para um Desempenho Duradouro em Semicondutores

Componente da câmara de gravação de semicondutores

BALORA® HALONA é um revestimento PVD desenvolvido para processos exigentes de plasma etching, oferecendo resistência excepcional a produtos químicos e abrasão, atendendo às necessidades atuais e futuras da indústria de semicondutores.

BALORA HALONA
Material de revestimento YOF
Tecnologia de Revestimento Magnetron PVD
Cor do revestimento clara/transparente
Dureza do revestimento HIT [GPa]* ~ 12
Coeficiente de atrito (a seco) em oposição ao aço** ~ 0.6
Temp. máx. de operação [°C]**** > 1000
Temperatura do processo [ºC] < 250
Comentário geral Todos os dados fornecidos são valores aproximados, que dependem da aplicação, ambiente e condições de testes.
*Dureza do revestimento HIT [GPa] Medido por nanorreentrância de acordo com a ISO 14577. Para multicamadas, a dureza de diferentes camadas varia. A dureza pode ser adaptada à aplicação.
**Coeficiente de atrito (a seco) em oposição ao aço Determinada pelo teste esfera no disco em condições a seco com uma esfera de aço de acordo com a ASTM G99. Durante a operação, os valores podem ser excedidos.
****Temp. máx. de operação [°C] Estes são os valores aproximados no campo. Devido às leis da termodinâmica, há uma dependência de pressão na aplicação.

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